2008年度 工学部 光応用工学科 昼間コース — [選択(B)] 4年(前期)

知的財産の基礎と活用

Intellectual Property

(財)工業所有権協力センター 非常勤講師・酒井 徹

2単位

目的

知的所有権制度を理解し,知的所有権の保護と制度の活用の重要性を各種の事例を基に修得する.

概要

科学技術創造立国を目指す我が国において,知的所有権の保護と制度の活用が,行政·産業界·大学·研究所にとって不可欠であるとの共通認識を持つ必要性を説くとともに,知的所有権制度の概要と,その活用法を,企業の特許戦略,特許侵害事件などの事例を紹介しつつ講義し,学生が将来,企業·大学·研究所などへ進んだ場合に知っておくべき知的所有権に関する基礎知識の修得をはかる.

要件

特になし.

注意

2日間の集中講義であるために全時間の出席を要する.

目標

1.知的所有権の概念についての理解を深める.
2.特許法,商標法,意匠法,著作権法について理解する.

計画

1.知的所有権とは
2.知的所有権制度の概要(特許·商標等)
3.知的所有権制度の概要(意匠·著作権制度等)
4.特許発明と特許権侵害(含む事例研究)
5.知的所有権の管理とその活用(企業·大学·研究所)
6.今後の研究開発と知的所有権のあり方
7.試験(到達目標1および2の評価)

評価

到達目標が各々達成されているかを試験70%,講義への取り組み状況30%で評価し,平均で60%あれば合格とする.

JABEE合格

到達目標が各々達成されているかを試験100%で評価し,各々60%以上あれば合格とする.

JABEE関連

本学科の教育目標の1(1),1(2),1(3),1(4),3(5)にそれぞれ20%対応する.

対象学生

開講コース学生のみ履修可能

教科書

特製テキストを用いる.

参考資料

中山信弘著「知的所有権」 日刊工業新聞社

通産省特許庁編「これからは日本も知的創造時代」 通商産業調査会

連絡先

酒井(Tel:03-5600-2631, Fax:03-5600-2649)