2009年度 工学部 化学応用工学科 昼間コース — [選択] 3年(後期)

反応工程設計

Chemical Process Design

准教授・外輪 健一郎

2単位

目的

どのようにして化学プロセスは工業化されてきたかを学びながら, 反応工学の基礎理論を理解させる.

概要

化学プロセスの収支計算と最適条件の導出技術の基礎を述べる.また,反応プロセスで多様される,固定床触媒反応装置などの接触装置を取り上げ,各種装置における圧力損失,伝熱と拡散問題などについて学修する.

キーワード

プロセス設計,反応工学,触媒反応

要件

2年後期の「化学反応工学」を修得していることが望ましい.

目標

1.化学プロセスのフローチャートを読むことができ,代表的な工業化事例を述べることができること.
2.固定床および流動床における圧損,温度分布および流動化開始速度の設計試算できること.
3.化学プロセスの最適化方法の基礎を解説できること.

計画

1.序論
2.化学プロセスの収支計算
3.最適化の基礎
4.線形計画法
5.反応装置の構造形式
6.工業触媒
7.中間試験
8.反応器の設計方程式
9.反応器の設計計算
10.触媒有効係数
11.固定床反応装置
12.流動層
13.撹拌装置
14.バイオプロセス
15.事例紹介
16.定期試験

評価

小テスト20点,中間試験30点,定期試験50点を加算し,60点以上を合格とする.

JABEE関連

本学科学習・教育目標(A:○),(B:◎)に対応する.

対象学生

開講コースと同学科の夜間主コース学生も履修可能

教科書

橋本健治著,「反応工学」

参考資料

授業中に紹介する.

連絡先

外輪(化307, 088-656-4440, sotowa@chem.tokushima-u.ac(no-spam).jp)
オフィスアワー: 月曜16:00から17:00,火曜16:00から17:00.このほかでも在室時は対応可能の場合あり.

備考

特に無し.