化学反応工学特論
Advanced Chemical Reaction Engineering
形態
講義
目的
最新の触媒分析手法とともに化学反応器の設計および運転法を導出する基礎となる，モデリング手法，及び最適化手法について解説する．
概要
XAFSや固体NMRなどの最新の固体触媒キャラクタリゼーション法を概説する．さらに化学装置の一例として反応装置を例題として取り上げ，化学装置の設計，運転に関する基礎的な技術を開設する．
キーワード
触媒，反応装置，プロセス設計，最適化，反応工学
要件
学部教育における化学工学を理解していること．
注意
予習復習を行なうこと．
目標
| 1. | XAFSや固体NMRなどの最新の分析技術の理解(1回目∼7回目) |
| 2. | 化学プロセスの最適化手法の理解(8回目∼15回目) |
計画
| 1. | XAFS (1) : 概説 |
| 2. | XAFS (2) : 透過法 |
| 3. | XAFS (3) : 蛍光法 |
| 4. | XAFS (4) : 事例紹介 |
| 5. | 固体NMR (1) : 概説 |
| 6. | 固体NMR (2) : CP MAS |
| 7. | 固体NMR (3) : 事例紹介 |
| 8. | 最適化問題 |
| 9. | 線形計画法 |
| 10. | 非線形計画法 |
| 11. | 最急降下法と直線探索 |
| 12. | 整数計画問題 |
| 13. | ピンチテクノロジー |
| 14. | プロセス設計演習 |
| 15. | プロセス最適化に関する最近の話題 |
評価
授業最終日に課すレポートで評価する．
再評価
特別な事情がある場合を除き，再試などは行わない．
対象学生
開講コース学生のみ履修可能
教科書
All lecture documents will be opened through U-learning system.
連絡先
杉山(化309, 088-656-7432, sugiyama@chem.tokushima-u.ac(no-spam).jp)
- オフィスアワー: 月曜，火曜，16:00∼18:00 または随時対応
外輪(化307, sotowa@chem.tokushima-u.ac(no-spam).jp)
- オフィスアワー: 月曜，火曜，16:00∼18:00 または随時対応