プロセス開発工学
Chemical Process Design and Development
形態
講義形式とポートフォーリオ形式の併用
目的
化学プロセスの開発における反応工学および装置工学の基礎理論と触媒技術の応用について講述する．
概要
工業触媒の所要性能と触媒機能の動態設計ならびにプロセス開発への応用について講述する．さらに，触媒の活性座の局所構造の解析に関する先端技術，とくにXPS，EXAFSおよび固体NMRの応用について講義する．学生によってはポートフォーリオ形式を併用する．
キーワード
触媒，NMR，EXAFS，化学反応器，マイクロリアクタ
要件
大学卒業レベルの触媒化学と反応工学の知識を有することが望ましい．
目標
| 1. | 工業用触媒の現状とプロセス開発への応用を理解する(1-5回目，11-13回目の講義)． |
| 2. | 触媒の局所構造解析に対する先端技術を理解する(6-10回目，14-15回目の講義)． |
計画
| 1. | 工業触媒(1) |
| 2. | 工業触媒(2) |
| 3. | 工業触媒(3) |
| 4. | 工業触媒(4) |
| 5. | 工業触媒(5) |
| 6. | 局所構造解析(1) |
| 7. | 局所構造解析(2) |
| 8. | 局所構造解析(3) |
| 9. | 局所構造解析(4) |
| 10. | 局所構造解析(5) |
| 11. | 事例報告(1) |
| 12. | 事例報告(2) |
| 13. | 事例報告(3) |
| 14. | 事例報告(2) |
| 15. | 事例報告(5) |
評価
課題によって成績を評価する．
対象学生
開講コース学生のみ履修可能
教科書
授業中に紹介する．
参考資料
授業中に紹介する．
連絡先
杉山(化309, 088-656-7432, sugiyama@chem.tokushima-u.ac(no-spam).jp)
- オフィスアワー: 月曜，火曜，16:00-17:00
外輪(化307, 088-656-4440, sotowa@chem.tokushima-u.ac(no-spam).jp)
- オフィスアワー: 月曜，火曜，16:00-17:00